電子產(chǎn)品用高純石英砂SJ/T 3228.2-2016——第2部分：分析方法通則

中華人民共和國電子行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)《電子產(chǎn)品用高純石英砂》第2部分——分析方法通則

標(biāo)準(zhǔn)編號(hào)：SJ/T 3228.2-2016

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行有效

本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國工業(yè)和信息化部2016年1月15日發(fā)布，2016年6月1是開始實(shí)施。

前言

SJ/T 3228系列標(biāo)準(zhǔn)計(jì)劃分下列部分：

——SJ/T 3228.1 電子產(chǎn)品用高純石英砂 第1部分技術(shù)條件；

——SJ/T 3228.2 電子產(chǎn)品用高純石英砂 第2部分分析方法通則；

——SJ/T 3228.3 電子產(chǎn)品用高純石英砂 第3部分灼燒失量的測(cè)定；

——SJ/T 3228.4 電子產(chǎn)品用高純石英砂 第4部分二氧化硅的測(cè)定；

——SJ/T 3228.5 電子產(chǎn)品用高純石英砂 第5部分鐵的測(cè)定；

——SJ/T 3228.6 電子產(chǎn)品用高純石英砂 第6部分銅的測(cè)定；

——SJ/T 3228.7 電子產(chǎn)品用高純石英砂 第7部分鉻的測(cè)定；

——SJ/T 3228.8 電子產(chǎn)品用高純石英砂 第8部分鋁的測(cè)定；

——SJ/T 3228.10 電子產(chǎn)品用高純石英砂 第10部分鉛的測(cè)定。

本部分為第2部分。

本部分按照GB/T1.1-2009給出的規(guī)則起草。

本部分代替SJ/T 3228.2-1989。

本部分與SJ/T 3228.2-1989相比，主要技術(shù)內(nèi)容變化如下：

——增加了引用文件；

——修改了分析天平稱量精度、試劑配制及分析用水和試劑的純度要求；

——修改了天平砝碼定期校正要求。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利。本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別這些專利的責(zé)任。

本部分由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)（SAC/TC203）提出并歸口。

本部分起草單位：工業(yè)和信息化部電子工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究院、國家硅材料深加工產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心、東?？h產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)所。

本部分主要起草人：李運(yùn)強(qiáng)、許振午、程尚栩、欒振祥、薄雷明、李建德、馮亞彬、管琪。

本部分所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：

——SJ/T 3228.2-1989。

1 范圍

本部分規(guī)定了高純石英砂分析方法的一般要求。

本部分適用于高純石英砂的分析方法。

2 規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，儀注日期的版本適用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用于本文件。

GB/T 6682 分析實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)格和試驗(yàn)方法

3 要求

3.1 所使用的分析天平稱量準(zhǔn)確精度應(yīng)達(dá)到0.1mg。

3.2 試劑配制及分析所用的水應(yīng)為超純水，電阻事應(yīng)≥l8MQ·cm，同時(shí)符合GB/T 6682中實(shí)驗(yàn)室用一級(jí)水的要求。

3.3 分析所用的試劑除指明外均指MOS級(jí)或電子級(jí)。

3.4 分析所用的溶液除指明溶劑外，均指水溶液。

3.5 方法中所謂“恒重”系指連續(xù)二次稱重的差不超過±0.2g。

3.6 凡標(biāo)準(zhǔn)溶液的濃度，應(yīng)保留四位有效數(shù)字。

天平及容量器皿等應(yīng)定期校準(zhǔn)，并在校驗(yàn)期內(nèi)。